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導(dǎo)讀:拋光加工是保證表面質(zhì)量不可或缺的技術(shù)手段。本文提出了一種基于各向同性刻蝕輪廓包絡(luò)原理的拋光技術(shù),可獲得納米級(jí)超光滑表面,而且適用于多種常見金屬材料,具有普適性和顯著的工業(yè)應(yīng)用價(jià)值??梢约庸ぞ哂袕?fù)雜外形和內(nèi)腔結(jié)構(gòu)的金屬零件,加工效率高且加工后表面無殘余應(yīng)力。
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近日,南方科技大學(xué)機(jī)械與能源工程系助理教授鄧輝研究團(tuán)隊(duì)在機(jī)械制造領(lǐng)域頂級(jí)期刊International Journal of Machine Tools and Manufacture上發(fā)表最新研究成果,提出了一種基于電化學(xué)各向同性刻蝕輪廓包絡(luò)原理的金屬材料普適性拋光加工技術(shù)。
拋光是一種常見的表面加工技術(shù),主要目的是降低表面粗糙度、去除損傷層,最終獲得光滑且無損傷的高質(zhì)量表面。無論是日常生活中的消費(fèi)用品還是制造技術(shù)高度集成的半導(dǎo)體芯片,拋光加工都是保證表面質(zhì)量不可或缺的技術(shù)手段。近年來,在金屬材料超精密加工領(lǐng)域,具有復(fù)雜外形和內(nèi)腔的金屬零件的拋光一直是工業(yè)界所面臨的技術(shù)難題。傳統(tǒng)的諸如化學(xué)機(jī)械拋光、激光拋光以及磁流變拋光,都存在“刀具干涉”問題。如何在不破壞金屬零件的面形精度的前提下,高效率獲得納米級(jí)光滑表面,是目前亟待解決的技術(shù)難題。
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受單點(diǎn)金剛石超精密車削加工的刀尖軌跡包絡(luò)原理啟發(fā),課題組提出了一種基于各向同性刻蝕輪廓包絡(luò)原理的拋光技術(shù)():在拋光液的鈍化作用下,金屬表面生成一層鈍化膜;在電場(chǎng)的作用下,鈍化膜的薄弱位置優(yōu)先發(fā)生擊穿放電;通過阿倫尼烏斯公式優(yōu)化相關(guān)參數(shù),擊穿位點(diǎn)可實(shí)現(xiàn)密度可控的各向同性刻蝕反應(yīng);隨著各向同性刻蝕的進(jìn)行,刻蝕坑不斷擴(kuò)展并相互融合完成包絡(luò);最終原始粗糙表面被超光滑表面取代。
根據(jù)上述拋光原理,課題組對(duì)拋光過程中材料表面的形貌變化以及粗糙度變化進(jìn)行了建模分析,其結(jié)果如所示。拋光開始階段,由于刻蝕坑的形成,表面粗糙度逐漸增加;隨著拋光的進(jìn)行,表面刻蝕位點(diǎn)互相融合取代了原始粗糙表面,表面粗糙度迅速降低;最后,初始表面被完全取代,轉(zhuǎn)變?yōu)槌饣砻妗脑撃P涂芍?,基于提出的包絡(luò)拋光原理,理論上可獲得亞納米級(jí)超光滑表面。
以鈦(TA2)的超精密拋光為例(),課題組通過對(duì)電解液和擊穿電壓等參數(shù)的優(yōu)化,實(shí)現(xiàn)了材料表面的各向同性刻蝕。拋光所形成的刻蝕坑呈現(xiàn)規(guī)則的半球形,密度可控,內(nèi)表面具有納米級(jí)粗糙度(Sa=1.13nm)。研究結(jié)果表明,此方法對(duì)TA2可實(shí)現(xiàn)15.1m/min的高效率去除,在拋光3分鐘后表面粗糙度Sa從64.1nm迅速降低到1.23nm,高效率獲得了納米級(jí)表面。
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同時(shí),研究團(tuán)隊(duì)也將這一拋光技術(shù)應(yīng)用到了其他典型金屬材料,如鎳磷合金、鎳鈦合金、304不銹鋼、6063鋁合金、Inconel718合金等。如所示,拋光后的樣品表面都具備了鏡面效果,也都獲得了納米級(jí)表面粗糙度。這一結(jié)果表明:研究團(tuán)隊(duì)提出的各向同性刻蝕輪廓包絡(luò)拋光技術(shù)可作為一種普適性拋光加工手段應(yīng)用于常見金屬材料,具有顯著的工業(yè)應(yīng)用價(jià)值。
鄧輝介紹,此項(xiàng)研究所提出的刻蝕輪廓包絡(luò)拋光技術(shù)避免了使用傳統(tǒng)拋光工藝所不可或缺的剛性工具,因此該技術(shù)不存在“刀具干涉”問題,可以加工具有復(fù)雜外形和內(nèi)腔結(jié)構(gòu)的金屬零件,加工效率高且加工后表面無殘余應(yīng)力。此外,由該技術(shù)的加工原理可知,這一技術(shù)適用于絕大部分的金屬材料,具有較強(qiáng)的通用性。未來,這一技術(shù)有望在航空航天和汽車零部件等領(lǐng)域投入應(yīng)用,也可解決3D打印金屬零件的后處理難題。
鄧輝課題組2019級(jí)博士生易蓉為文章第一作者,鄧輝為文章通訊作者,南方科技大學(xué)為通訊單位。該研究獲得了深圳市科技創(chuàng)新委員會(huì)國(guó)際合作項(xiàng)目和深圳市海外高層次人才創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)項(xiàng)目的資助。
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論文鏈接:
https://doi.org/10.1016/j.ijmachtools.2020.103517
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